(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】2019526437
(43)【公表日】20190919
(54)【発明の名称】ガラス基材を洗浄する方法および装置
(51)【国際特許分類】
   B08B 11/04 20060101AFI20190823BHJP
   C03C 23/00 20060101ALI20190823BHJP
   B08B 5/00 20060101ALI20190823BHJP
【FI】
   !B08B11/04
   !C03C23/00 A
   !B08B5/00 A
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
【全頁数】35
(21)【出願番号】2019510617
(86)(22)【出願日】20170824
(85)【翻訳文提出日】20190419
(86)【国際出願番号】US2017048298
(87)【国際公開番号】WO2018039394
(87)【国際公開日】20180301
(31)【優先権主張番号】62/379,315
(32)【優先日】20160825
(33)【優先権主張国】US
(81)【指定国】 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,GT,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM,TN,TR,TT
(71)【出願人】
【識別番号】397068274
【氏名又は名称】コーニング インコーポレイテッド
【住所又は居所】アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14831 コーニング リヴァーフロント プラザ 1
(74)【代理人】
【識別番号】100073184
【弁理士】
【氏名又は名称】柳田 征史
(74)【代理人】
【識別番号】100123652
【弁理士】
【氏名又は名称】坂野 博行
(74)【代理人】
【識別番号】100175042
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 秀明
(72)【発明者】
【氏名】フゥ,シュエ ホン
【住所又は居所】台湾 30073 シン チュ シン チュアン ストリート レーン 185 ナンバー 70
(72)【発明者】
【氏名】ホウ,ジュン ユエン
【住所又は居所】台湾 70260 タイナン シティ サウス ディストリクト ジンホア ロード セクション 2 レーン 289 アレイ 5 ナンバー 37
(72)【発明者】
【氏名】スゥ,ズー−ヘン
【住所又は居所】台湾 42873 タイチュン シティ ダーヤー ミンズゥ ストリート レーン 147 ナンバー 1
(72)【発明者】
【氏名】ムゥ,シアオフォン
【住所又は居所】中華人民共和国 シャンハイ ミン ハン チー シン ロード ナンバー 2315 ルーム 56−603
(72)【発明者】
【氏名】リスツィティウスキー,ウィリアム ポール
【住所又は居所】アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14435 コネサス ジョイ ロード 5797
(72)【発明者】
【氏名】ジョウ,ナイユエ
【住所又は居所】アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14870 ペインティド ポスト サウス オークウッド ドライヴ 52
【テーマコード(参考)】
3B116
4G059
【Fターム(参考)】
3B116AA02
3B116AB14
3B116BB33
3B116BB43
3B116BB72
3B116CD42
3B116CD43
4G059AA08
4G059AC30
(57)【要約】
ガラス基板を洗浄する装置および方法が開示され、装置は、シュラウド組立体のシュラウド部分の開口部がガラス基板に隣接するようにガラス基板の搬送路に沿って配置されたシュラウド組立体を含む。シュラウド組立体の中空内部空間内に収容されたノズル組立体は、ガスの噴射をガラス基板に向けている間に回転し、粒子状物質を払い落とす。真空は、シュラウドの周りに延びるスカート部分によって画定された第2の内部の空中空間に印加され、その結果、払い落とされた粒子状物質が除去される。第2の真空は、シュラウドに蓄積された粒子状物質を除去するために、シュラウドの背面部分に印加される。装置は、シュラウド組立体に隣接して配置されたガスナイフおよび、シュラウド組立体の下方に配置された真空経路をさらに含んでもよい。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガラス基板を洗浄する装置において
シュラウド組立体
を備え、該シュラウド組立体が、
第1の中空内部空間を画定するシュラウドであって、該シュラウドは、該第1の中空内部空間への第1の開口部を画定する第1の端部と、該第1の端部の反対側の、該第1の中空内部空間への第2の開口部を画定する第2の端部とを含む、シュラウド、
前記中空内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材であって、 該ノズル部材は、ガスの第1の流れを前記ガラス基板の方に導くように配置された第1のガス抜きを含む、ノズル部材、
スカート部分であって、環状の第2の中空内部空間が該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第1の端部に隣接して該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記第2の開口部を介して前記第1の内部空間と流体連通する第1の真空孔および前記環状の第2の内部空間と流体連通する第2の真空孔、
を含む、装置。
【請求項2】
前記シュラウドが、円錐形部分を含む、請求項1に記載の装置、
【請求項3】
前記第1のガス抜きが、前記ガスの第1の流れを前記回転軸に向う方向に導くように配置されている、請求項1または2に記載の装置。
【請求項4】
前記シュラウド組立体に近接して配置され、ガスの第3の流れを前記基板に向う方向に導くように配置された少なくとも1つのガスナイフをさらに備える請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
【請求項5】
前記シュラウド組立体より下方に配置された真空経路をさらに備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
【請求項6】
前記第1の開口部が前記基板の主要面に隣接して配置されるように実質的に垂直の配向で該基板を搬送するように構成された搬送装置をさらに備え、該搬送装置は、
搬送部材、
前記搬送部材に結合され、搬送方向に該搬送部材の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体、
前記キャリッジ組立体に結合された1対の延伸装置であって、該1対の延伸装置の各延伸装置は、前記搬送方向と実質的に平行な方向に該延伸装置から延びるガイドアームを含み、該ガイドアームは、該搬送方向と直交する横方向に沿って移動可能である、1対の延伸装置、
前記ガラス基板の前縁を第1の位置で検出するために配置される第1のセンサー、
および
前記キャリッジ組立体および前記1対の延伸装置の移動を制御および調整するように構成されたコントローラ、
を含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の装置。
【請求項7】
前記ガラス基板の前縁を前記搬送方向に対して前記第1の位置の下流側で第2の位置で検出するために配置された第2のセンサーをさらに備える、請求項6に記載の装置。
【請求項8】
ガラス基板を洗浄する方法において
前記ガラス基板を搬送方向に搬送するステップであって、該ガラス基板が、シュラウド組立体を備えるガラス洗浄装置に隣接して通り、該シュラウド組立体が、
第1の中空内部空間を画定するシュラウドであって、該シュラウドは、該第1の中空内部空間への第1の開口部を画定する第1の端部と、該第1の端部の反対側の第2の端部とを含み、該第2の端部が、該第1の中空内部空間への第2の開口部を画定し、該第2の開口部の直径が、該第1の開口部の直径未満である、シュラウド、
前記内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なガスノズル部材であって、該ガスノズル部材が、ガスの第1の流れを前記ガラス基板の主要面に向う方向に導くように配置された第1のガス抜きを含む、ガスノズル部材、
スカート部分であって、環状の第2の中空内部空間が該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第1の開口部に隣接して該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記環状第2の中空内部空間と流体連通する第1の真空孔、
を含む、ステップと、
前記ガスの第1の流れが、円形路を前記第1の開口部を通って前記ガラス基板の表面にわたって掃引し、粒子状物質を該ガラス基板の表面から払い落とすように前記ガスノズル部材を前記回転軸周りに回転させるステップ、および
吸引を前記第1の真空孔に印加し、それによって、前記払い落とされた粒子状物質を該第1の真空孔を介して排出するステップ
を含む、方法。
【請求項9】
前記第1の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約1メートル/秒以下である、請求項8に記載の方法。
【請求項10】
前記シュラウドが、前記第2の開口部を介して前記第1の中空内部空間と流体連通する第2の真空孔を含み、前記方法は、前記ガラス基板が前記シュラウド組立体に隣接していないときに限り吸引を該第2の真空孔に印加することをさらに含む、請求項8または9記載の方法。
【請求項11】
前記シュラウド組立体が前記ガラス基板に隣接していないときに前記第1のガス抜きを通る前記ガスの第1の流れを停止することをさらに含む、請求項8から10のいずれか一項に記載の方法。
【請求項12】
前記搬送するステップが、
前記ガラス基板の前縁の位置を前記搬送方向に対して感知するステップ、
前記前縁の前記感知された位置を用いて搬送速度を判定するステップ、
前記ガラス基板の前記感知された位置に応答してキャリッジ組立体を前記搬送速度で前記搬送方向に移動するステップであって、該キャリッジ組立体は、該組立体に結合され、該搬送方向と実質的に平行な方向に該組立体から延びる1対の対向するガイドアームを備える、ステップ、
前記ガイドアームを開放位置から制約する位置まで前記搬送方向と直交する横方向に移動し、それによって、該ガイドアーム間の隙間を低減して該搬送方向と直交する方向の前記ガラス基板の移動を制約するステップ、
を含む、請求項11に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【0001】
本出願は、2016年8月25日に出願された米国特許仮出願第62/379,315号の優先権の恩恵を主張するものであり、この内容が、その全体に依存され、完全に以下に記載されているがごとくここに全て引用される。
【技術分野】
【0002】
本発明は、基板、例えば、平面ガラス基板を洗浄する方法および装置、より詳細には、基板搬送時の基板表面からの粒子状物質および他のデブリの除去に一般に関する。
【背景技術】
【0003】
製造プロセスにおける粒子(以下、「粒子状物質」)の生成は、回避不能かもしれない。多くの業界において、これは、問題とならないかもしれない。しかしながら、特定の他の業界において、例えば、平面ガラス基板からのガラスディスプレイパネルの製造において、ガラス基板上に沈殿した粒子状物質は、動作不能なディスプレイパネルの生産に至ることがある。ガラスの脆性のために、ガラス粒子状物質の生成は、特にガラスの切断、例えば、より長いガラスリボンからの個々のガラス板の切断を伴うプロセス中には回避しにくい。ガラス粒子状物質がガラス板の表面上に堆積した直後に除去されなかった場合、ガラス粒子状物質は、強力に表面に付着し得、ガラス粒子状物質は、完全に除去するのが実質的に不可能となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
したがって、そのような除去を目指した取り組みをできるだけ粒子状物質生成プロセス、および、ガラスの初期汚染近くで展開する必要がある。さらに、粒子状物質状除去プロセスでは、粒子状物質をガラス板の表面から払い落とし、粒子状物質をガラス板面の付近から除去し、粒子状物質がガラス板表面上に再び堆積するのを防止する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示は、粒子状物質を基板および特にガラス基材の表面から除去する装置および方法を説明する。ここでの実施形態ではガラス洗浄装置を説明するが、ガラス洗浄装置は、ガラス基板がシュラウド組立体を過ぎて搬送されるとき、シュラウド内に配置された回転ガスジェットがシュラウドに隣接したガラス基板の表面上の粒子状物質を払い落とすように配置された1つ以上のシュラウド組立体を備える。ガスジェットの回転特性は、粒子状物質がガスジェットによってすべての角度から攻撃され、その結果、粒子状物質を払い落とすガスジェットの能力が増大することを確実にする。さらに、ガラス基板に最も近いシュラウドの端部の周りに配置されたスカート部分は、真空が印加されるスカート部分とシュラウドとの間の環状空間を形成する。リング真空としてここで説明されるが、環状空間内で印加されたリング真空は、払い落とされた粒子状物質を回収して環状空間と流体連通する排気口を介して排出する。シュラウド組立体の周りに配置されたガスナイフは、ガス、例えば空気の幕をシュラウド組立体とガラス基板の表面との間の隙間内で導き、その結果、リング真空を免れたかもしれない粒子状物質は、粒子状物質がリング真空によって捕捉されるようにシュラウド組立体とガラス基板との間に押し戻される。シュラウドの後部に設けられた真空孔は、シュラウド内に蓄積したかもしれない粒子状物質のシュラウドを空にするために使用することができる。中央真空としてここで説明されるが、シュラウドの後部から印加された中央真空は、好ましくはガラス基板間に印加される。すなわち、ガラス基板が順次にシュラウド組立体を過ぎて搬送されるとき、中央真空は、ガラス基板がシュラウド組立体に隣接して呈示される前にはオフされており、その後、ガラス基板がシュラウド組立体を通過した後に再びオンされる。ガラス基板がガラス基板の直近にある間にリング真空およびガスジェットと同時に中央真空を操作すると、シュラウド内のガス(例えば、空気)の流れを乱すことが判明したが、これは、粒子状物質をガラス基板面から払い落として排出するシュラウド組立体の能力に悪影響を与える。シュラウド組立体より下方に配置された真空経路は、リング真空によって排出することなく落ちる大型の粒子状物質を回収するために使用することができる。
【0006】
したがって、平面の基板を洗浄する装置が開示され、装置は、第1の中空内部空間を画定するシュラウドを備えるシュラウド組立体を備え、シュラウドは、内部空間への第1の開口部を画定する第1の端部と、第1の端部の反対側の、内部空間への第2の開口部を画定する第2の端部とをさらに含む。装置は、内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材をさらに備え、ノズル部材は、ガスの第1の流れを基板の方に導くように配置された第1のガス抜きを含む。ノズル部材は、ガスの第2の流れを回転軸と直交する方向に導き、その結果、ガスノズルを回転軸周りに回転させるスラストを印加するように配置された第2のガス抜きも含むことがある。シュラウド組立体は、環状の第2の中空内部空間がスカート部分とシュラウドとの間に形成されるように第1の開口部に隣接するシュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分を含むことがある。シュラウド組立体は、第2の開口部を介して第1の内部空間と流体連通する第1の真空孔および環状の第2の中空内部空間と流体連通する第2の真空孔も含むことがある。シュラウドは、少なくとも1つの円錐形部分を備えることがある。
【0007】
いくつかの実施形態において、第1のガス抜きは、ガスの第1の流れを回転軸に向う方向に内方に導くように配置されてもよい。
【0008】
装置は、シュラウド組立体に近接して配置され、ガスの第3の流れを基板に向う方向に導くように配置された少なくとも1つのガスナイフをさらに備えることがある。
【0009】
いくつかの実施形態において、装置は、シュラウド組立体より下方に配置され、シュラウド組立体の付近から落ちる大きい粒子状物質を回収するように構成された真空経路をさらに備えることがある。
【0010】
による装置は、基板がシュラウド組立体を過ぎて搬送されるときに第1の開口部が基板の主要面に隣接して配置されるように基板を実質的に垂直の配向で搬送するように構成された搬送装置をさらに備えることがある。
【0011】
いくつかの実施形態において、ガラス洗浄装置は、平面基板が1対の対向するシュラウド組立体の間で搬送されるように配置された1対の対向するシュラウド組立体を含んでも差し支えなく、1対のシュラウド組立体は、基板の両方の主要面の少なくとも一部を同時に洗浄する。
【0012】
いくつかの実施形態において、第1の開口部上の第2の開口部の突出部は、第1の開口部と同心である。すなわち、ノズル部材の回転軸と一致するシュラウドの長手軸は、第1および第2の開口部の両方の中央部を貫通する。
【0013】
いくつかの実施形態において、シュラウドの少なくとも一部は、円筒形である。
【0014】
搬送装置は、搬送部材、搬送部材に結合され、搬送方向に搬送部材の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体、および、キャリッジ組立体に結合された1対の延伸装置を含むことがあり、1対の延伸装置の各延伸装置は、延伸装置から搬送方向と実質的に平行な方向に延びるガイドアームを含み、ガイドアームは、搬送方向と直交する横方向に沿って移動可能である。搬送装置は、ガラス板の前縁を第1の位置で検出するために配置されたる第1のセンサー、例えば、光センサー、および、キャリッジ組立体および1対の延伸装置の移動を制御および調整するように構成されたコントローラをさらに備えることがある。各ガイドアームは、ガイドアームの長さに沿って配置された複数のローラーを備えることができる。いくつかの実施形態において、各ガイドアームは、加圧ガスの供給源と流体連通する複数のガスポートを含んでも差し支えない。装置は、ガラス板の前縁を搬送方向に対して第1の位置の下流側で第2の位置で検出するために配置された第2のセンサーをさらに備えることがある。いくつかの実施形態において、装置は、ガラス板の前縁を第3の位置で検出するために配置された第3のセンサーを含んでもよく、第3のセンサーは、第1のセンサーと垂直に位置合わせされている。例えば、第3のセンサーは、ガラス板の前縁をガラス板の下縁部で検出するために配置されてもよい。
【0015】
別の実施形態において、ガラス基板を洗浄する方法が開示され、この方法は、ガラス基板を搬送方向に搬送するステップを含み、ガラス基板は、シュラウド組立体を備えるガラス洗浄装置に隣接して通り、シュラウド組立体は、第1の中空内部空間を画定するシュラウドを含み、シュラウドは、第1の中空内部空間への第1の開口部を画定する第1の端部、および、第1の端部の反対側の第2の端部を含み、第2の端部は、第1の中空内部空間への第2の開口部を画定し、第2の開口部の直径は、第1の開口部の直径未満である。シュラウド組立体は、内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材をさらに含むことがあり、ノズル部材は、ガスの第1の流れをガラス基板の主要面に向う方向に導くように配置された第1のガス抜きを備える。シュラウド組立体は、環状の第2の中空内部空間がスカート部分とシュラウドとの間に形成されるように、第1の開口部に隣接するシュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分をなおもさらに含むことがある。シュラウド組立体は、環状第2の中空内部空間と流体連通する第1の真空孔をなおもさらに含むことがあり、方法は、ガスの第1の流れが、円形路を第1の開口部を通ってガラス基板の表面にわたって掃引し、粒子状物質をガラス基板の表面から払い落とすようにノズル部材を回転軸周りに回転させるステップ、および、吸引を第1の真空孔に印加し、それによって、払い落とされた粒子状物質を第2の真空孔を介して排出するステップをさらに含む。
【0016】
シュラウドは、第2の開口部を介して第1の中空内部空間と流体連通する第2の真空孔を含むことがあり、方法は、ガラス基板がシュラウド組立体に隣接していないときに限り吸引を第2の真空孔に印加することをさらに含む。
【0017】
いくつかの実施形態において、ノズル部材を回転させることは、ガスの第2の流れを回転軸と直交する方向に導くように構成されたガスノズル部材の第2のガス抜きを介してガスの第2の流れを導き、それによってノズル部材を回転させることを備えても差し支えない。
【0018】
いくつかの実施形態において、第1の開口部上への第2の開口部の突出部は、第1の開口部と同心である。
【0019】
いくつかの実施形態において、シュラウドは、少なくとも1つの円錐形部分を備える。
【0020】
いくつかの実施形態において、ガラス基板は、実質的に垂直の配向でガラス基板の頂部から支持されている間に搬送されてもよく、搬送することは、ガラス基板の前縁の位置を搬送方向に対して感知して、搬送速度を判定するために前縁の感知された位置を使用することを含む。方法は、ガラス基板の感知された位置に応答してキャリッジ組立体を搬送速度で搬送方向に移動するステップをさらに含むことがあり、キャリッジ組立体は、該組立体に結合され、搬送方向と実質的に平行な方向に該組立体から延びる1対の対向するガイドアームを備える。方法は、ガイドアームを開放位置から制約する位置まで搬送方向と直交する横方向に移動し、それによってガイドアーム間の隙間を低減することと、および
搬送方向と直交する方向のガラス基板の移動を制約することをなおもさらに含むことがある。
【0021】
ここで開示された実施形態のさらなる特徴および利点は、以下の詳細な記載において述べ、ある程度、その記載から当業者には容易に明らかになるか、または、以下の詳細な記載、特許請求の範囲、ならびに、添付図面を含め、本発明をここで説明されたように実施することによって認識されるであろう。
【0022】
前出の概要および以下の詳細な記載の両方は、権利主張された本発明の性質および特性を理解するための概要つまりフレームワークを提供することが意図されている実施形態を提示していると理解すべきである。添付図面は、さらなる理解をもたらすために含まれ、本明細書の一部に組み込まれて本明細書の一部を成す。図面は、本開示の様々な実施の形態を説明し、記載とともに、その原理および作用を説明する役目をする。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1】例示のガラス製造装置の概略図である。
【図2】図1のガラス製造装置と共に使用してもよいガラス基板処理ステーションの斜視図である。
【図3】図2のガラス基板処理ステーションの搬送装置の一部の上面図である。
【図4】実施形態による、図2および図3のガラス基板処理ステーションの搬送装置の一部の斜視図である。
【図5】別の実施形態による、図2および図3のガラス基板処理ステーションの搬送部分の一部の斜視図である。
【図6】センサー制御を示す図1のガラス製造装置と共に使用してもよいガラス基板処理ステーションの搬送部分の斜視図である。
【図7】ここで開示された実施形態による、ガラス基板処理ステーションを備えるガラス基板洗浄ステーションの構成要素の構成の概略図である。
【図8】ここで開示された実施形態による例示のシュラウド組立体の断面図である。
【図9A】ここで開示された実施形態による代替シュラウドの斜視図である。
【図9B】ここで開示された実施形態による別の代替シュラウドの斜視図である。
【図10】例示のノズル部材の底面図である。
【図11A】ここで開示された実施形態による例示のシュラウド組立体の、シュラウド組立体内のガス流を示す断面図である。
【図11B】図10に示されたノズル部材のガス抜きからのガス流の、傾斜ガス流を示す概略図である。
【図11C】図10に示されたノズル部材のガス抜きからのガス流の、傾斜非対称ガス流を示す概略図である。
【図12A】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図12B】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図12C】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図12D】例示のガラス基板洗浄装置を通り過ぎたガラス基板の進行の概略図である。
【図13】間に搬送されたガラス基板の両側に対向する関係で配置された1対のシュラウド組立体の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0024】
本開示の選択された実施形態をここで詳細に参照し、これらの実施形態の実施例が添付図に例示されている。可能な限り、同じまたは同様の部品を指すために同じ参照番号を、図面を通して使用する。
【0025】
範囲は、「約」1つの特定の値から、および/または「約」別の特定の値までとここで表され得る。そのような範囲が表されるとき、別の実施形態は、一方の特定の値からおよび/または他方の特定の値までを含む。同様に、値が先行語「約」の使用によって近似として表されるとき、特定の値は、別の態様を成すことが理解されよう。
【0026】
ここで用いられたときの方向の用語−例えば、上、下、右、左、前、後ろ、頂部、底部−は、描写されたときの図を参照してのみ成され、別段の記載がない限り、絶対定位を意味することは意図されていない。
【0027】
別段に明示的に記載されていない限り、ここに記載された何らかの方法は、複数のステップが特定の順序で実行されることを必要とし、また、何らかの装置について、特定の配向が必要であると解釈されることは決して意図されていない。したがって、方法の請求項ではステップによって従われる順序が実際には記載されていないか、または、
何らかの装置の請求項では、個々の構成要素に対する順序または配向が実際には記載されていないか、または、ステップは、特定の順序に限定されることが、特許請求の範囲または説明において別段に具体的な記載されていないか、または、装置の構成要素に対する特定の順序または配向が記載されていない場合、順序または配向を何らかの点において推論することは決して意図されていない。これは、ステップの構成、動作フロー、構成要素の順番または構成要素の配向に関する論理の問題、文法構成または句読法から導出された明白な意味、および、本明細書で説明された実施形態の数または形式を含め、解釈のための一切の考えられる不明確な根拠に当てはまる。
【0028】
ここで使用されるとき、単数形「a」、「an」および「the」は、文脈上で他に明確な指示がない限り、複数の指示物を含む。したがって、例えば、「1つの」構成要素への言及は、文脈上で別段に明瞭に示されていない限り、2つ以上のそのような構成要素を有する態様を含む。
【0029】
以下の開示は、粒子状物質、例えば、ガラス粒子状物質をガラス基板、例えば、2つの対向する主要面を備える個々の板ガラスの表面から除去するという文脈において提示されているが、本開示の教示を他の基板、例えば、セラミック基板、ガラスセラミック基板、セラミック基板、ポリマー基板などの洗浄に適用し得ることを理解すべきである。
【0030】
図1に例示のガラス製造装置10が示されている。いくつかの実施形態において、ガラス製造装置10は、溶融槽14をさらに含み得るガラス溶融炉12を備え得る。溶融槽14に加えて、ガラス溶融炉12は、原材料を溶融槽内で加熱して原材料を溶融ガラスに変換するように構成された発熱体(例えば、燃焼バーナーまたは電極)などの1または2以上のさらなる構成要素を任意選択的に含み得る。さらなる実施例において、ガラス溶融炉12は、溶融槽の付近から失われる熱を低減するように配置された熱管理装置(例えば、断熱構成要素)を含んでもよい。なおもさらなる実施例において、ガラス溶融炉12は、ガラス溶融物への原材料の溶融を容易にするように構成された電子装置および/または電気機械装置を含んでもよい。なおもさらに、ガラス溶融炉12は、支持構造体(例えば、支持シャーシ、支持部材など)または他の構成要素を含んでもよい。
【0031】
ガラス溶融槽14は、典型的には、耐火性セラミック材料、例えば、アルミナまたはジルコニアを含む耐火性セラミック材料など、炉材で構成されている。いくつかの実施例において、ガラス溶融槽14は、耐火性セラミックレンガから構築してもよい。
【0032】
いくつかの実施例において、ガラス溶融炉は、ガラス基板、例えば、不確定の長さのガラスリボンを製作するように構成されたガラス製造装置の構成要素として組み込まれてもよい。いくつかの実施例において、ガラス溶融炉は、フロート槽装置を備えるガラス製造装置、ダウンドロー装置(例えば、フュージョン装置またはスロットドロー装置)、アップドロー装置、プレス圧延装置、管引き装置、または、ここで開示された実施形態から恩恵を受けると思われる任意の他のガラス製造装置の構成要素として組み込まれてもよい。一例として、図1は、ガラスリボンフュージョンドロー用フュージョンダウンドローガラス製造装置10の構成要素としてのガラス溶融炉12を概略的に示す。ガラスリボンは、例えば、ガラスリボンをスプールに巻回することによってロールに巻装しても差し支えないか、または、ガラスリボンは、ガラスリボンを切断することによって個々のガラス板に処理しても差し支えない。
【0033】
ガラス製造装置10(例えば、フュージョンダウンドロー装置10)は、溶融ガラスの流れ方向に対してガラス溶融槽14の上流側に配置された上流側ガラス製造装置16を任意選択的に含んでも差し支えない。いくつかの実施例において、上流側ガラス製造装置16の一部または全体は、ガラス溶融炉12の一部として組み込まれてもよい。
【0034】
図1の示された実施例に示されているように、上流側ガラス製造装置16は、原材料貯蔵ビン18、原材料送達装置20、および、原材料送達装置に接続されたモーター22を含むことができる。貯蔵ビン18は、矢印26によって示されているように、ガラス溶融炉12の溶融槽14内に供給することができる量の原材料24を貯蔵することがある。原材料24は、典型的には1つ以上のガラス形成金属酸化物および1つ以上の改質剤を含む。原材料24は、清澄剤など、他の添加物をさらに含んでもよく、廃棄ガラス(すなわち、カレット)をさらに含んでもよい。いくつかの実施例において、原材料送達装置20は、原材料送達装置20が所定の量の原材料24を貯蔵ビン18から溶融槽14まで送達するようにモーター22によって給電しても差し支えない。さらなる実施例において、モーター22は、溶融槽14から下流側で感知された溶融ガラスのレベルに基づいて制御された速度で原材料24を導入するために原材料送達装置20に給電しても差し支えない。溶融槽14内の原材料24をその後加熱して溶融ガラス28を形成しても差し支えない。
【0035】
ガラス製造装置10は、ガラス溶融炉12の下流側に配置された下流側ガラス製造装置30も任意選択的に含んでも差し支えない。いくつかの実施例において、下流側ガラス製造装置30の一部は、ガラス溶融炉12の一部として組み込まれることがある。例えば、いくつかの実施形態において、以下で論じられる第1の連結管32または下流側ガラス製造装置30の他の部分が、ガラス溶融炉12の一部として組み込まれてもよい。第1の連結管32を含め、下流側ガラス製造装置30の複数の要素が、貴金属から形成されることがある。適切な貴金属としては、白金、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、パラジウムおよびそれらの合金から成る金属の群から選択された白金族金属を挙げることができる。例えば、ガラス製造装置の下流側構成要素は、約70%重量から約90%重量までの白金および約10%重量から約30%重量までのロジウムを含む白金−ロジウム合金から形成されることがある。しかしながら、他の適切な金属としては、モリブデン、レニウム、タンタル、チタン、タングステンおよびそれらの合金を挙げることができる。
【0036】
下流側ガラス製造装置30は、溶融槽14から下流側に位置して先に参照された第1の連結管32によって溶融槽14に結合された、清澄槽34など、第1の調整(すなわち、処理)槽を含むことができる。いくつかの実施例において、溶融ガラス28は、第1の連結管32によって溶融槽14から清澄槽34まで重力供給されることがある。例えば、重力は、溶融ガラス28を第1の連結管32の内部の通路を通って溶融槽14から清澄槽34まで駆動することがある。しかしながら、他の調整容器を例えば、溶融槽14と清澄槽34との間に溶融槽14の下流側に配置してもよいことを理解すべきである。いくつかの実施形態において、調整槽は、溶融槽と清澄槽との間に採用されることがあり、1次溶融槽からの溶融ガラスをさらに加熱して溶融プロセスを続行するか、または、清澄槽34に入る前に、溶融槽14内の溶融ガラスの温度よりも低い温度に冷却する。
【0037】
気泡が、様々な技法によって清澄槽34内の溶融ガラス28から除去されてもよい。例えば、原材料24は、加熱されたとき、化学還元反応を経て酸素を放出する酸化錫などの多価化合物(すなわち、清澄剤)を含むことがある。他の適切な清澄剤としては、ヒ素、アンチモン、鉄、およびセリウムが制限なしに挙げられる。清澄槽34内の溶融ガラスは、溶融槽14内の溶融ガラスの温度よりも大きい温度に加熱され、その結果、1つ以上の清澄剤が加熱される。清澄剤の温度によって誘発された化学還元によって生成された酸素気泡は、清澄槽34内の溶融ガラスを通って上昇し、溶融槽14内で生成された溶融ガラス内のガスは、集合するか、または、清澄剤によって生成された酸素気泡に拡散し得る。拡大した気泡は、その後、清澄槽内の溶融ガラスの自由表面まで上昇すると、その後、清澄槽から排出することができる。酸素気泡は、泡が溶融ガラスを通って上昇するときに清澄槽内の溶融ガラスの機械的な混合をさらに生成し得る。
【0038】
下流側ガラス製造装置30は、溶融ガラスを混合する混合装置36など、清澄槽34から下流側に位置することもある別の調整槽をさらに含むことができる。混合装置36を使用して、均質の溶融ガラス組成物をもたらすことができ、その結果、そうでない場合は清澄槽34を出る清澄した溶融ガラス内に存在するかもしれない化学的なまたは熱的な不均一性が低減される。図示されているように、清澄槽34は、第2の連結管38によって溶融ガラス混合装置36に結合されることがある。いくつかの実施例において、溶融ガラス28は、第2の連結管38によって清澄槽34から混合装置36まで重力供給されることがある。例えば、重力は、溶融ガラス28を第2の連結管38の内部の通路を通って清澄槽34から混合装置36まで駆動することがある。混合装置36は清澄槽34の下流側に示されているが、混合装置36は、清澄槽34から上流側に配置されることがあることに留意すべきである。いくつかの実施形態において、下流側ガラス製造装置30は、複数の混合装置、例えば、清澄槽34から上流側の混合装置および清澄槽34から下流側の混合装置を含むことがある。これらの複数の混合装置は、同じデザインであってもよいか、または、異なるデザインであってもよい。
【0039】
下流側ガラス製造装置30は、混合装置36から下流側に位置することがある送達容器40などの別の調整槽をさらに含むことができる。送達容器40は、下流側形成装置内に供給されるように溶融ガラス28を条件づけることがある。例えば、送達容器40は、一貫した流量の溶融ガラス28を調整して出口導管44によって形成体42に供給するアキュームレータおよび/または流量コントローラとして機能することができる。図示されているように、混合装置36は、第3の連結管46によって送達容器40に結合されることがある。いくつかの実施例において、溶融ガラス28は、第3の連結管46によって混合装置36から送達容器40まで重力供給されることがある。例えば、重力は、溶融ガラス28を第3の連結管46の内部通路を通って混合装置36から送達容器40まで駆動することがある。
【0040】
下流側ガラス製造装置30は、先に参照した形成体42を備えて入口導管50を含む形成装置48をさらに含むことができる。出口導管44は、入口導管50を通って送達容器40から形成体42まで溶融ガラス28を送達するように配置することができる。形成体42は、形成体の上面内に配置されて入口導管50から溶融ガラスを受容するように構成されたトラフ52、および、形成体の下縁部56に沿って延伸方向に収束する1対の収束形成面54を備えることができる。送達容器40、出口導管44および入口導管50を介して形成体トラフに送達された溶融ガラスは、トラフの壁部を越流して溶融ガラスの別個の流れとして収束形成面54に沿って下る。溶融ガラスの別個の流れは、ガラス58の単一のリボンを生成するために下縁部56より下方でかつ下縁部56に沿って合流し、ガラス58の単一のリボンは、ガラスが冷却してガラスの粘度が増大するときにガラスリボンの寸法を制御するために、重力、エッジロールおよびプルロール(図示せず)によってなど、張力をガラスリボンに印加することによって下縁部56から延伸方向60に引き出される。したがって、ガラスリボン58が冷却するとき、ガラスは、粘弾性遷移を経てガラスリボン58に安定した寸法特性を与える機械的性質を取得する。ガラスリボン58は、いくつかの実施形態において、機械的またはレーザー切目入および切断技術によってガラスリボンの弾性域においてガラス分離装置(図示せず)によって個々のガラス基板62に分離されることがある。これらの個々のガラス基板は、その後、エッジトリミング装置などのその後の下流側装置、および/または、ここで以下により詳細に説明されるように、ガラス板の表面上に蓄積したかもしれないガラス粒子状物質および他のデブリの除去用装置に移送されることがある。例えば、いくつかの実施形態において、ガラス基板62は、ガラス基板の上縁部を保持する把持機構部を使用してガラス基板を垂直の配向で搬送する搬送装置で、形成装置48から移送されることがあり、ガラス基板は、移送中に把持機構部から名目上垂直の配向で下向きに吊着している。ガラス基材は、その後、その後の下流側処理設備に案内されることがある。
【0041】
ディスプレイガラス業界における効率利得は、望ましくはガラス出力向上で、品質の劣化または資本支出の増加なしに、例えば、溶融流量の増加を使用することによって、処理速度高速化にある程度依存してきた。溶融ガラス流量の増大をガラス板肉薄化と組み合わせることは、単位時間当たりのガラス板の増加を意味し、これには、ひいては、ガラス板搬送速度が増す必要がある。ガラス肉薄化は、搬送速度の増加と結合すると、基板の移送中に上縁部抑制のみを使用するときにガラス基板の揺れの増大が発生し得る。ガラス基板の揺れの増大によって、固定式ガイダンス装置を使用する下流側プロセス設備へのガラス基板の案内がより難しくなり、ガラス基板損傷のリスクが増大する。ここで使用されているとき、揺れは、ガラス基板の主要面と概ね直交する方向での左右の揺れ(例えば、ガラス基板の制約されたエッジ周りの回転)を指す。
【0042】
ガラス基板が垂直に吊着しているガラス基板のそうでない場合は制約されない下縁部の一部を案内するために採用された固定された位置のガイドと接触したとき、ガラス基板の損傷(例えば、ガラス基板の前縁の欠け落ち)の可能性がある。固定されたガイドと移動中のガラス基板との間の相対運動に起因するガラス基板の一方または両方の主要面上の欠けまたは擦過傷など、他の損傷も、発生することがある。
【0043】
座屈がより起こりやすいより肉薄のガラス基板の傾向に加えて、肉薄ガラス基板は、縁部、例えば、研削または研磨(例えば、面取りまたは円形化)プロセスステップの恩恵を有していなかった切断後のガラス基板縁部が「切断されたままの」ときにさらに一層衝撃による損傷が起こりやすく、研削または研磨(例えば、面取りまたは円形化)プロセスステップは、疵を基板エッジおよびエッジ面から低減または除去し、それによってエッジ強さを向上させることがある。個々のガラス基材は、典型的には形状が矩形であり、未処理切断エッジ、特に隅部は、衝撃を受けた場合には、損傷、例えば、擦り傷、欠け落ちおよび破断がより起こりやすい。ディスプレイ業界において、より大きな解像度、すなわち、より小さい画素サイズおよび/または画素密度を示すディスプレイパネルの生産の傾向もあり、その結果、ガラス面清浄度は、従来の要件よりもさらに良好である必要がある。固定式ガイドは、ガラス基板主要面に付着し得るガラス粒子となる擦過傷および/または欠けを引き起こし得る。これらの付着したガラス粒子は、最終的なディスプレイパネルの欠陥を引き起こし得る。したがって、ガラス基板製造プロセス内のガラス粒子生成を低減することができる装置および方法は、非常に望ましい。したがって、切断されたままの前縁(例えば、隅部)に接触しないガラス基板案内システムを使用することによって、損傷、したがって、粒子生成、可能性を低減することができる。
【0044】
自然な進行を垂直形成プロセス、例えば、フュージョンダウンドロー法から下流側処理設備に行いながらガラス基板の移送速度増大を容易にすることができる装置および方法がここで説明されるが、ここで説明された装置および方法は、同様に、ガラス板を形成するスロットドロー法、ロール法およびフロート法を含むがこれらに限定されず、他のガラス形成プロセスに有益であることがあることを理解すべきである。ここで開示された装置および方法は、ガラス基板に付着する粒子状物質の量を、排除するなど、減少させるために使用されることもある。
【0045】
したがって、下流側ガラス製造装置30は、ガラス基板洗浄プロセスステーション64をさらに備えることがある。図2は、ガラス基板を1つの処理ステーションから別の処理ステーションまで、例えば、形成装置48からガラス基板洗浄プロセスステーション64まで移動する移送組立体102を含む搬送装置100を備える例示のガラス基板洗浄プロセスステーション64を示す。移送組立体102は、レールまたは軌道104、例えば、天井レールシステム、および、移動可能な取り付け台組立体106含むことがあり、移動可能な取り付け台組立体106は、搬送方向108にレール104に沿って進むように構成されている。取り付け台組立体106は、ガラス基板62に装着する、例えば、クランプするクランプ装置110を備えることがあり、取り付け台組立体106は、ガラス基板62を下流側目的地、例えば、ガラス基板洗浄プロセスステーション64などの下流側ガラス処理ステーションに移送することがある。取り付け台組立体106は、リニアモーター、チェーンまたはプーリー(ベルト)駆動装置などを含め、任意の適切手段によって駆動されてもよい。取り付け台組立体106の移動は、以下でより完全に説明されるコントローラによって制御されることがある。取り付け台組立体106は、一定速度で移動されてもよいか、または、取り付け台組立体106は、可変速度で移動されてもよい。例えば、いくつかの実施形態において、下流側ガラス処理ステーション、例えば、洗浄プロセスステーション64でのガラス基板62の処理を達成することができるように取り付け台組立体106、したがって、移送中のガラス基板を減速または停止することが必要であることがあるが、他の実施形態において、取り付け台組立体106は、レール104に沿って連続的に移動されることがある。
【0046】
搬送装置100は、搬送方向108に搬送部材112の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体114を含む搬送部材112をさらに備えることがある。キャリッジ組立体114は、キャリッジ組立体114を例えば、搬送方向108に、および、搬送方向108の反対の戻り方向に搬送部材112の長さに沿って搬送するのに適した、例えばリニアモーター、サーボモーターまたは他の搬送装置を備える駆動組立体116に結合されてもよい。搬送部材112は、例えば、搬送方向および戻り方向のキャリッジ組立体114の支持および案内運動が可能である軌道、レールまたは任意の他の適切な案内機構部を備えてもよい。
【0047】
図3および図4をここで参照すると、例示の実施形態において、キャリッジ組立体114は、キャリッジ組立体114に装着された第1の延伸装置118、および第2の延伸装置120を備えることがあり、第1の延伸装置118および第2の延伸装置120は、延伸装置から延び、他方のガイドアームとの対向する関係で、例えば、搬送方向108と実質的に平行な方向に配置された第1のガイドアーム122および第2のガイドアーム124をそれぞれ備える。いくつかの実施形態において、延伸装置118、120は、支持部材112に向ってまたは支持部材112から離れるように搬送方向108と直交する横方向127に沿って延びる空圧スライドであっても差し支えない。さらなる実施形態において、第1および第2の延伸装置118、120は、サーボモーターを備えることがある。図3および図4に示された実施形態において、第1の延伸装置118は、第1の延伸装置118が延びるとき、(図3および図4では支持部材112に対して「外側」ガイドアームである)第1のガイドアーム122は、支持部材112から離れるように移動し、第1の延伸装置118が退縮するとき、第1のガイドアーム122は、支持部材112に向って移動するように配置されている。同様に、第2の延伸装置120は、第2の延伸装置120が延びるとき、(図3および図4では支持部材112に対して「内側」ガイドアームである)第2のガイドアーム124は、支持部材112から離れるように移動し、第2の延伸装置120が退縮するとき、第2のガイドアーム124は、支持部材112に向って移動するように配置されている。第1および第2の延伸装置118、120は、一方の延伸装置が延びるとき、他方の延伸装置が退縮するように互いに反対に使用することができ、したがって、第1および第2のガイドアームは、併せて開閉動作を実行する。例えば、第1の延伸装置118が延び、第2の延伸装置120が退縮する場合、ガイドアーム122、124は、開放動作を実行することになる。逆に、第1の延伸装置118が退縮し、第2の延伸装置120が延びる場合、ガイドアーム122、124は、閉鎖動作を実行することになる。
【0048】
搬送装置100は、コントローラ126(例えば、図2を参照)をさらに備えることがあり、コントローラ126は、駆動組立体116を、制御ライン117を介して、延伸装置118、120を、それぞれ制御ライン119、121を介して制御することによって、キャリッジ組立体114およびガイドアーム122、124の移動を制御および調整する。コントローラ126は、取り付け台組立体106の移動を、制御ライン123を介してなどさらに制御することがあるが、さらなる実施形態において、取り付け台組立体106は、第2のコントローラによって制御されることがある。ここで使用されるとき、「コントローラ」または「プロセッサ」という用語は、実施形態によってプログラマブルプロセッサ、コンピュータ、または、複数のプロセッサまたはコンピュータを含め、データを処理するすべての装置、デバイスおよびマシンを包含し得る。プロセッサは、ハードウェアに加えて、当該のコンピュータプログラムの実行環境を作成するコード、例えば、プロセッサファームウェア、プロトコルスタック、データベース管理システム、オペレーティングシステム、またはそれらの内の1つ以上の組み合わせを構成するコードを含んでいても差し支えない。
【0049】
実施形態およびここで説明された機能動作は、本明細書で開示された構造およびそれらの構造同等物を含め、デジタル電子回路において、または、コンピュータソフトウェア、ファームウェアまたはハードウェアにおいて、または、それらの内の1つ以上の組み合わせで実行されても差し支えない。ここで説明された実施形態は、1つ以上のコンピュータプログラム製品、すなわち、データ処理装置による実行のために、または、データ処理装置の動作を制御するために有形のプログラムキャリア上で符号化されたコンピュータプログラム命令の1つ以上のモジュールを組み込んでも差し支えない。有形のプログラムキャリアは、コンピュータ可読媒体であり得る。コンピュータ可読媒体は、機械可読記憶装置、機械可読記憶装置基板、メモリー素子、または、それらの内の1つ以上の組み合わせであっても差し支えない。
【0050】
(プログラム、ソフトウェア、ソフトウェアアプリケーション、スクリプトまたはコードとしても知られている)コンピュータプログラムが、コンパイルまたは解釈された言語または宣言型または手続き型言語を含め、任意の形のプログラミング言語で書かれても差し支えなく、独立型プログラムとして、または、コンピューティング環境での使用に適したモジュール、構成要素、サブルーチンまたは他のユニットとしてを含め、任意の形態で展開されても差し支えない。コンピュータプログラムは、ファイルシステム内のファイルに必ずしも対応するというわけではない。プログラムは、他のプログラムまたはデータを保持するファイルの一部(例えば、マークアップ言語ドキュメントに記憶された1つ以上のスクリプト)に、当該のプログラム専用の単一ファイルに、または、複数の調整されたファイル(例えば、1つ以上のモジュール、サブプログラムまたはコードの部分を記憶するファイル)に記憶されても差し支えない。コンピュータプログラムは、1つのコンピュータ上で、または、1つのサイトに位置するか、または、複数のサイトにわたって分散されて通信ネットワークによって相互接続された複数のコンピュータ上で実行されるように展開されても差し支えない。
【0051】
ここで説明されたプロセスは、入力データで動作して出力を生成することによって諸機能を実行するために1つ以上のコンピュータプログラムを実行する1つ以上のプログラマブルプロセッサを使用して実行されても差し支えない。プロセスおよび論理フローは、また、専用論理回路、少し例を挙げれば、例えば、FPGA(フィールドプログラマブルゲートアレイ)またはASIC(特定用途向け集積回路)によって実行されても差し支えなく、装置も、少し例を挙げれば、例えば、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)または特定用途向け集積回路(ASIC)として実行されても差し支えない。
【0052】
コンピュータプログラムの実行に適したプロセッサとしては、実施形態によって、汎用マイクロプロセッサおよび専用マイクロプロセッサの両方、および、任意の種類のデジタルコンピュータの内の任意の1つ以上のプロセッサが挙げられる。一般的に、プロセッサは、命令およびデータを読み取り専用メモリーまたはランダムアクセスメモリーまたはその両方から受信することになる。コンピュータの必須要素は、命令を実行するプロセッサ、および、命令およびデータを記憶する1つ以上のデータメモリー装置である。一般的に、コンピュータは、また、データを記憶する1つ以上の大容量記憶装置、例えば、磁気ディスク、光磁気ディスクまたは光ディスクを含むことになるか、または、データを該記憶装置から受信するか、または、データを該記憶装置に伝達するか、または、その両方を行うために作動可能に結合されることになる。しかしながら、コンピュータは、そのようなデバイスを有する必要はない。
【0053】
コンピュータプログラム命令およびデータの記憶に適したコンピュータ可読媒体としては、実施形態によって、半導体メモリー装置、例えば、EPROM、EEPROMおよびフラッシュメモリー装置、磁気ディスク、例えば、内蔵ハードディスクまたは取り外し可能ディスク、光磁気ディスク、および、CD−ROMディスクおよびDVD−ROMディスクを含め、不揮発性メモリー、媒体およびメモリー素子を含む全くの形のデータメモリーが挙げられる。プロセッサおよびメモリーは、専用論理回路によって補充されるか、または、専用論理回路に組み込まれても差し支えない。
【0054】
ユーザーとの対話に備えるために、ここで説明された実施形態は、表示デバイス、例えば、情報をユーザーに表示するLCD(液晶ディスプレイ)モニターなど、および、キーボードおよびポインティング装置、例えば、ユーザーが入力をコンピュータに供給することができるマウスまたはトラックボール、またはタッチスクリーンを備えるコンピュータ上で実行されても差し支えない。他の装置が、同様に、ユーザーとの対話に備えるために使用さされても差し支えなく、例えば、ユーザーからの入力は、音響入力、音声入力または触覚型入力を含め、任意の形で受信されても差し支えない。
【0055】
ここで説明された実施形態は、バックエンドコンポーネントを例えば、データサーバとして含むか、または、ミドルウェアコンポーネント、例えば、アプリケーションサーバーを含むか、または、フロントエンドコンポーネント、例えば、グラフィカルユーザーインターフェース、または、ユーザーがここで説明された主題の実行例と対話することができるウェブブラウザを有するクライアントコンピュータを含むか、または、1つ以上のそのようなバックエンドコンポーネント、ミドルウェアコンポーネントまたはフロントエンドコンポーネントの任意の組み合わせを含むコンピューティングシステム含んでも差し支えない。システムのコンポーネントは、任意の形式および/または媒体のデジタルデータ通信、例えば、通信ネットワークによって相互接続されても差し支えない。通信ネットワークの実施形態としては、ローカルエリアネットワーク(「LAN」)および広域ネットワーク(「WAN」)、例えば、インターネットが挙げられる。
【0056】
コンピューティングシステムは、クライアントおよびサーバーを含むことができる。クライアントおよびサーバーは、一般的に互いから遠く離れ、典型的には通信ネットワークを介して対話する。クライアントおよびサーバーの関係は、それぞれのコンピュータ上で実行され、互いにクライアントサーバ関係を有するコンピュータプログラムによって生じる。
【0057】
したがって、コントローラ126は、キャリッジ組立体114および延伸装置118、120の移動を、予めプログラムされたコンピュータ可読媒体内または上に収容され、コントローラ、例えば、プロセッサによって実行された命令を介して制御することがある。他の実施形態において、コントローラ126は、キャリッジ組立体114および延伸装置118、120の移動を外部入力、例えばセンサー入力に応答して制御してもよい。さらに他の実施形態において、コントローラ126は、キャリッジ組立体114および延伸装置118、120の移動を予めプログラムされた命令およびセンサー入力の両方に応答して制御してもよい。例えば、搬送装置100は、搬送方向108に対するガラス基板62の前縁128および/または後縁130の任意の1つまたは全て、例えば、前縁の頂部、前縁の底部、後縁の頂部および/または後縁の底部を含め、ガラス基板62またはその一部の位置を検出するセンサーを含むことがある。そのために、搬送装置100は、搬送方向108に対するガラス基板62の前縁128を検出するように配置された第1のセンサー132a(図6を参照)を含むことがある。第1のセンサー132aは、非接触センサー、例えば、光センサーであることがあるが、さらなる実施形態において、第1のセンサー132aは、接触スタイルのセンサーであってもよい。第1のセンサー132aは、光源134a、反射ターゲット136aおよび検出器138aを含むことがある。第1のセンサー132aは、(以下でさらに詳細に論じられているように)キャリッジ組立体114の開始位置の上流側に配置することができ、光源134aおよび検出器138aは、ガラス基板搬送路の片側上に配置され、反射ターゲット136aは、ガラス基板62またはその一部が光源134aと反射ターゲット136aの間を通るように搬送路の反対側上に配置されている。光源134aからの光ビーム140aは、搬送路全体にわたって投射されると反射ターゲット136aによって反射される。その後、反射光は、検出器138aによって受光される。ガラス基板62が光源と反射ターゲットとの間を通る場合、光ビーム140aは乱れる。検出器138aでの光ビーム140aの乱れによって示されたガラス基板の有無は、データライン142aで適切な信号を介してコントローラ126に通信され、適切な信号が受信されると、コントローラ126は、予めプログラムされた命令を実行することができる。
【0058】
第1のセンサー132aは、異なる構成で配置することができることが明らかであるはずである。例えば、検出器138aは、ガラス基板62が光源134aと検出器138aとの間を進行するように光源134aの反対側に配置することができ、その結果、反射ターゲット136aが不要である。
【0059】
各ガイドアーム122、124は、ガイドアーム間に配置された名目上垂直のガラス基板の移動を抑制するために配置されることがある。例えば、図4に示された実施形態など、いくつかの実施形態において、各ガイドアーム122、124は、ガイドアーム間の隙間Gが低減されるようにガイドアームが横方向127に沿って反対方向に移動するとき、ガラス基板62がローラーに接触してもよいように各ガイドアームの長さに沿って配置された複数のローラー144を備えてもよい。例えば、対向する案内部材間の隙間Gの幅または間隔に応じて、ガラス基板62は、散発的にのみ、例えば、ガラス基板の左右揺れ中にローラーに接触してもよく、その結果、ガラス基板下縁部の移動は、隙間G内にあるように制限される。他の実施形態において、ガイドアーム122、124は、ガラス基板62がガイドアーム間に配置され、したがって、ローラー144がガラス基板と連続的に接触している時間中にガイドアームがガラス基板の下縁部を挟んで締め付けるように配置してもよい。さらなる実施形態において、非接触抑制が採用されてもよく、ガイドアーム122、124は、各々、図5に示されているように複数のガス抜き146を備えてもよい。ガス供給管路148、150を介してガイドアームに供給された加圧ガスは、その後、対向するガイドアームのガス抜き146に強制通風されてもよく、その結果、ガラス基板の側方移動が抑制される。いくつかの実施形態において、加圧ガスは、空気であってもよいが、さらなる実施形態において、ガスは、異なるガスであってもよい。
【0060】
搬送装置100を操作する方法がここで論じられることになる。図2および図6を参照すると、1つの実施形態において、移送組立体102がレール104に沿ってガラス基板62を移動するとき、第1のセンサー132aからの光源134aは、光ビーム140aを投射しており、光ビーム140aは、反射ターゲット136aから反射して検出器138aによって受光される。それに反応して、検出器138aが、適切電気信号でコントローラ126に、搬送路が空いている(すなわち、ガラス基板の不在がある)ことを示す。キャリッジ組立体114は、初期開始位置に(例えば、図2および図6では支持部材112の右端部寄りに)あり、案内部材122、124は、例えば、開放位置にあり、隙間Gは、ガラス基板の厚さよりも大きい。例えば、開放位置での隙間Gは、200ミリメートル以上であることがあるが、さらなる実施形態において、隙間Gは、200ミリメートル未満、ただし、ガラス基板の厚さよりも大きくてもよい。ガラス基板62が搬送方向108に移動し続けるとき、ガラス基板62の前縁128は、光ビーム140aと交差し、この時点で、検出器138aは、十分な反射光を反射ターゲット136aから受信することができない。したがって、検出器138aは、ガラス基板の存在を登録して適切な信号をコントローラ126に送る。応答して、コントローラ126は、キャリッジ組立体114に搬送方向108に移動し始めるように指示する。
【0061】
いくつかの実施形態において、搬送装置100は、第1のセンサー132aより下方に配置された第2のセンサー132bをさらに備えることがあり、第2のセンサー132bは、第1のセンサー132aと同様の構成要素を備える。例えば、第2のセンサー132bは、光源134b、反射ターゲット136b、および、(例えば、第1のセンサー132aの光ビーム140aと類似の)光ビームを反射ターゲット136bから反射された光源134bから受光するように配置された検出器138bを備えることがある。第2のセンサー132bは、前縁128を第1のセンサー132aと同時に検出するように配置されることがある。すなわち、矩形ガラス基板について、および、クランプ装置110内でのガラス基板の上縁部の適切な整合を仮定して、前縁128は、垂直ラインを呈示すべきである。結果として、前縁128は、第1および第2のセンサー組立体132a、132bの両方からの光ビームを実質的に同時に「破断する」べきである。コントローラ126が(所定の差での)前縁の同時の検出が取得されなかったことを示す信号を受信した場合、考えられる原因は、ガラス基板が破断していることがあり得る。コントローラは、その後、ガラス基板62が除去されてもよいように搬送装置100の停止または減速を含むが、これらに限定されず、さらなるアクションを開始することがある。あるいは、または加えて、搬送装置100は、ガラス基板62を搬送し続けてもよいが、コントローラ126は、下流側アクション、例えば、人間のオペレータによるさらなる検査を行うことができるように(搬送されてもよい他のガラス基板に対する)ガラス基板の位置を登録する。他方、前縁の同時の検出が取得された場合、搬送装置は、ガラス基板を次の処理ステーションに搬送方向に移動するように進む。
【0062】
前縁128の検出は、搬送方向108のキャリッジ組立体114の移動を始めるためにコントローラ126によって使用され得る。いくつかの実施形態において、搬送方向のガラス基板62の速度は、取り付け台組立体106からコントローラ126によって直に取得されてもよい。しかしながら、他の実施形態において、搬送装置100は、第1のセンサー132aから下流側に配置された第3のセンサー132cを含んでもよい。第1および第2のセンサー132a、132bと同様に、第3のセンサー132cは、光源134c、反射ターゲット136c、および検出器138cを含んでもよく、第1および第2のセンサー132a、132bと同じまたは同様に動作してもよい。コントローラ126は、第1のセンサー132a(および/または第2のセンサー132b)からの「ガラス存在」信号と第3のセンサー132cからの「ガラス存在」信号との間の時間を計算することができ、コントローラに予めプログラムされた所与のガラス基板サイズについて、搬送方向のガラス基板の速度を計算することができる。したがって、コントローラ126がガラス基板の搬送速度を計算すると、コントローラ126は、キャリッジ組立体114の速度をガラス基板62の速度に適合させることができる。コントローラ126は、また、閉鎖を始めるように延伸装置118、120に報せることがあり、その結果、隙間Gが低減または増大する。
【0063】
先述されたように、ガイドアーム122、124は、ガラス基板62との連続的な接触を生成することなく、隙間Gを低減することがあり、その結果、ガイドアームの部分間のガラス基板の下端の隙間Gによって定義された最大移動エンベロープが形成される。すなわち、隙間Gは、全開間隙距離を下回るが、ガラス基板の下縁部が、プロセスに影響を与え(例えば、ガラス基板の損傷を引き起こさ)ないために判定されたある程度の小量の側方移動(搬送方向と直交する移動)を許容されるように十分に大きい値に低減されることがある。例えば、隙間Gは、約10mmから約100mmの範囲、例えば、約20mmから約90mmの範囲の間隙距離に低減されることがある。先述されたように、ガイドアーム122、124は、ガラス基板62が接触してもよい接触面を提供するローラー144を備えることがある。ローラー144によって、ガラス基板とガイドアームと間の相対運動が、ガラス基板の表面をマーキングまたは損傷することがあり得るガイドアームとガラス基板との間の摺動を生成するのではなくローラーがガラス基板の主要面に当接して転動することによって対応されることが確実にされる。しかしながら、他の実施形態において、隙間Gは、ガイドアーム122、124がガラス基板62と連続的に接触するまで低減されてもよく、その結果、ガラス基板は、対向するガイドアーム間に挟まれて締め付けられる。ガイドアーム122、124が連続的な接触するか、または、間欠的にのみ接触するかは、下流側プロセスの内容によって指定されてもよい。例えば、連続的な接触は、前縁が下流側プロセスに入るときに前縁の非常に正確な位置に必要であることがある。さらに、ガラス基板下縁部とガイドアーム間の連続的な接触は、下流側プロセスに入るときに問題を示す湾曲部(すなわち、「反り」)をガラス基板が示した場合にガラス基板を平坦化するために使用することができる。例えば、湾曲部によって、ガラス基板の前縁と下流側処理設備との破壊的接触の見込みが増大することがある。
【0064】
さらに他の実施形態において、各ガイドアームは、1つ以上の無端ベルト(図示せず)が取り付けられていてもよく、ベルトは、ローラー144と同様に機能する。
【0065】
他の実施形態において、ガイドアーム122、124は、空気圧を使用してガラス基板をガイドアーム間の所定の移動エンベロープに押し進めてもよい。例えば、各ガイドアームは、複数のガス抜き146をガラス基板に対向する各ガイドアームの面に含んでもよい。加圧ガスは、その後、ガス抜きから押し進めてガラス基板の主要面に導くことができる。ガス圧力は、ガラス基板が、隙間Gの中央になど、ガイドアーム間の所望の場所に配置されるように2つのガイドアーム間でバランス調整することができる。あるいはまたは加えて、ガラス基板主要面に対向するガイドアームの面は、多くの通路を含む多孔質材料、例えば、黒鉛、高密度に多孔性のポリマーまたは金属、または、ガスをガラス基板62で出射してガラス基板62の位置を隙間G内に維持することに適した任意の他の微多孔質材料を備えてもよい。
【0066】
前縁128は、ガラス基板の他の部分よりも接触による損傷が発生しやすいことがあることから、ガイドアーム122、124が前縁128でガラス基板に接触しないことが望ましいことを理解すべきである。したがって、コントローラ126は、ガイドアームが最終的な案内位置に着いたときに(例えば、隙間Gが予定値に設定されてもはや低減しないときに)ガイドアーム(ガイドアームの先端)の極下流端が搬送方向108に対して前縁から上流側に配置されるようにプログラムされてもよい。すなわち、ガイドアームの端部は、搬送方向108に対して前縁から後方に配置されるべきである。例えば、コントローラ126は、ガイドアームの先端は、搬送方向108に対して、全ての範囲およびその間の部分範囲を含め、例えば、約10mmから約100mmの範囲で、例えば、約10mmから約60mmの範囲で、前縁の少なくとも10mm後方にあるようにガイドアーム122、124を配置するためにキャリッジ組立体114を駆動するようにプログラムすることができる。
【0067】
図1および図2に戻ると、ガラス基板洗浄プロセスステーション64は、ガラス洗浄装置200をさらに備えることがある。ガラス洗浄装置200は、ガラス基板が搬送装置100によって搬送されるときにシュラウド組立体がガラス基板62の第1の主要面204に近接して配置されるように配置されたシュラウド組立体202を備える。例えば、図2に示された実施形態において、ガラス基板62は、ガラス基板の頂部によって支えられた垂直の配向で搬送されてガイドアーム122、124によってガラス基板の底部で案内され、シュラウド組立体202は、ガラス基板62の第1の主要面204に隣接して配置されている。いくつかの実施形態において、ガラス洗浄装置200は、複数のシュラウド組立体202を含んでもよい。例えば、図2に例示する実施形態において、少なくとも2つのシュラウド組立体202が示されており、少なくとも2つのシュラウド組立体の両方は、ガラス基板が搬送方向108に搬送されるときにガラス基板62の同じ主要面、例えば、第1の主要面204に沿ってかつ隣接して配置されている。しかしながら、さらなる実施形態において、少なくとも2つのシュラウド組立体202は、ガラス基板62が搬送方向108(例えば、図13を参照)に沿って搬送されるときに1対の対向するシュラウド組立体202をガラス基板62の両側に形成するために例えば、互いの真反対にガラス基板の対向する主要面に隣接してもよい。さらに別の実施形態において、複数の対の対向するシュラウド組立体を利用してもよい。例えば、2つのシュラウド組立体が、ガラス基板の第1の主要面204に隣接して配置され、別の対のシュラウド組立体が、ガラス基板の対向する第2の主要面206に隣接して配置され、第1の対のシュラウド組立体と(直反対で)位置合わせされている。ガラス基板が搬送方向108に沿って搬送されるときにガラス基板の1つの主要面に隣接して配置された複数のシュラウド組立体は、ガラス基板に沿って同じ垂直高さに配置される必要はない。例えば、図7は、各シュラウドの中央部から測定されたときに距離δだけ互いから垂直に変位した側から見たときの2つのシュラウド組立体202を示す。さらに別の実施形態において、複数のシュラウド組立体は、ガラス基板がシュラウド組立体を過ぎて移送されるときに主要面全体(または、両方の主要面)がシュラウド組立体によって掃引されるように配置されてもよい。
【0068】
図8をここで参照すると、シュラウド組立体202は、シュラウド210を備える。シュラウド210は、いくつかの実施形態において、内部容積部214を画定する概ね円錐形の中空体、以下ファンネル212を備えてもよい。ファンネル212は、第1の円形開口部218を画定する第1の端部216、および、第1の端部216の反対側の、第2の円形開口部222を画定する第2の端部220を含み、第2の開口部222は、第1の開口部218の直径よりも小さい直径を備える。要件ではないが、第1および第2の開口部218および222は、第1の開口部218上の第2の開口部222の突出部が第1の開口部218と同心であるように位置合わせされてもよい。すなわち、長手軸224は、第1および第2の開口部218、222の両方の中央部を通って延びてもよい。例えば、第1の開口部218および第2の開口部222は、ファンネル212の長手軸である長手軸224と同心であってもよい。さらに要件ではないが、第1の開口部218が完全にある第1の平面226は、第2の開口部222が完全にある平面228と平行であってもよい。したがって、長手軸224は平面226および平面228と直交してもよい。
【0069】
シュラウド210は、いくつかの実施形態において、第2の端部220でファンネル212に装着された中空ネック部分230をさらに備えてもよく、中空ネック部分230は、ファンネル212から外方に延び、ネック部分230は、ファンネル212の中空内部214と流体連通する通路232を形成する。ネック部分230は、例えば、第2の端部220から離れて延びる概ね円筒形のチューブまたはパイプであってもよく、長手軸224と同心であってもよい。
【0070】
シュラウド210は、いくつかの実施形態において、フランジ236を含むスカート部分234も備えてもよく、スカート部分234は、ファンネル212の第1の端部216の周りに延びて該端部から離間されて、フランジ236によってファンネル212に接続されたさらなるシュラウド部材を備え、スカート部分234は、ファンネル212とスカート部分234との間の環状内部空間238および第1の端部216の周りに延びる第3の開口部240を画定する。スカート部分234は、スカート部分234に装着され、スカート部分234を通って延びる通路244を画定する少なくとも1つの中空排気管242も含んでもよく、少なくとも1つの排気管は、通過244を介して内部空間238と流体連通するが、さらなる実施形態において、スカート部分234は複数の排気管を含んでもよく、各排気管は、同様に通路244を介して内部空間238と流体連通する。スカート部分234は、長手軸224と平行な方向にファンネル212の第1の端部216を例えば、距離Rだけ延びてもよい。
【0071】
あるいは、シュラウド組立体202は、図9Aに示されているようにシュラウド310を備えてもよい。シュラウド310は、第1の開口部316を画定する第1の端部312および実質的に閉鎖された第2の端部318を含む概ね円筒形の中空体を備えてもよく、第2の端部318は、例えば、(第1の開口部316に対して)小さい第2の開口部322を備える平面またはドーム状端部部材320で閉鎖されていてもよい。すなわち、第2の開口部322の直径は、第1の開口部316の直径未満であってもよい。シュラウド310は、第2の開口部322で端部部材320に装着され、端部部材320から外方に延びる中空ネック部分324をさらに備えてもよく、ネック部分324は、シュラウド310の中空内部と流体連通する通路を形成する。ネック部分324は、例えば、端部部材320から離れて延びる概ね円筒形のチューブまたはパイプであってもよい。いくつかの実施形態において、第1の開口部316が完全にある平面上の第2の開口部322の突出部は、第1の開口部316と同心であってもよいが、さらなる実施形態において、平面上の第2の開口部322の突出部は、第1の開口部316から横方向に偏倚されていてもよい。
【0072】
図9Bに示されたさらに他の実施形態において、シュラウド410は、図8に示されたファンネル212と類似の円錐体であってもよく、第1の開口部416を画定する第1の端部414および、端部部材420、例えば、平面またはドーム状部材によって実質的に閉鎖された第2の端部418を備える。端部部材420は、第1の開口部416の直径未満の直径を有する第2の開口部422を画定してもよい。図9Aの実施形態のように、シュラウド410は、端部部材420に装着され、端部部材420から外方に延びる中空ネック部分424をさらに含んでもよく、ネック部分424は、シュラウド410の中空内部と流体連通する通路を形成する。ネック部分424は、例えば、端部部材420から離れて延びる概ね円筒形のチューブまたはパイプであってもよい。第1の開口部416が完全にある平面上の第2の開口部422の突出部は、第1の開口部416と同心である。説明のためであって制限するものではなく、以下の本開示は、図8に示されているようなファンネルの形のシュラウド212の文脈で提示されている。
【0073】
図8に戻って参照すると、シュラウド組立体202は、内部容積部214内に配置されたガス送達装置246をさらに備えることがある。例えば、ガス送達装置246は、ガス送達通路250を含む中央シャフト248および中央シャフト248に回転結合されたノズル部材252を備えることがある。ノズル部材252は、示されているように、長手軸224と一致する回転中心から外方に延びる2つのアームを含み、棒状であることがあるか、または、ノズル部材252は、2つ超えのアームを備えることがある。いくつかの実施形態において、ノズル部材252は、ディスクまたは回転軸周りの回転運動が可能な任意の他の形状の部材を備えてもよい。ガス送達装置246は、ファンネル212の内面と接続されている支持部材254によって内部容積部214内に装着され、内部容積部214内に支持されてもよい。いくつかの実施形態において、ノズル部材252は、支持部材254に直におよび回転可能に結合されてもよい。いくつかの実施形態において、中央シャフト248は、ノズル部材252に剛性結合されてもよく、シャフト部材252は、支持部材252に回転結合されている。ガス送達通路250は、加圧ガス256がガス供給管路258およびガス送達通路250を通ってノズル部材252に導かれるように加圧ガス256の供給源(図示せず)と流体連通する。ガス送達装置246は、ガス送達装置246に加圧空気など、加圧ガスが供給されるとき、ガスは、ガラス基板62に向う方向にノズル部材252のガス抜き254から出るように、ガス流路およびノズル部材252内に配置された複数のガス抜き254を含んでもよい。例えば、図11Bに示された実施形態において、ガス抜き254は、ガス256が軸線224に対して所定の角度でガス抜き254を出るように配置することができる。例えば、ガス256は、軸線224に対してほぼ0°の角度αで(即ち、ガラス基板62の表面204に垂直に)、または、軸線224に対してゼロよりも大きいから約60°の範囲の任意の角度でガス抜き254から出てもよい。いくつかの実施形態において、ガスは、必ずしも軸224と交差する方向というわけではないが、軸線224の方に内向きに出てもよい。例えば、いくつかの実施形態において、ガスは、内方に、ただし、軸線224から偏った方向(図11Cを参照)に出てもよい。いくつかの実施形態において、ガス送達装置246は、ガラス基板に向う方向にガスの流れを導くように構成された複数のガス抜きを備えてもよい。例えば、ノズル部材252は、ノズル部材の両端に位置し、ガラス基板の主要面に垂直に、または、主要面に斜めにガスの流れを概ねガラス基板62に導くように配置された複数のガス抜き254を含んでもよい。
【0074】
図10を参照すると、ノズル部材252は、ガスが、矢印258によって示されているように、ガラス基板と実質的に平行な方向にノズル部材を出るように配置された第2の複数のガス抜き256をさらに備えることがあり、その結果、軸線224周りの円形方向に回転可能ノズル部材を推進するスラストが得られる。したがって、ノズル部材252は、内部空間214内で回転されることがある。ノズル部材252が内部空間214内で回転するとき、第1の複数のガス抜き254から出るガスは、円形パターンをたどってシュラウド組立体202に隣接して配置されたガラス基板の方に導かれる。第1の複数のガス抜き254が全体的に軸線224の方向に斜めにガスの流れを導くように構成されている実施形態によれば、ガス流は、ガラス基板上の粒子状物質を払い落として粒子状物質をファンネル212の中心軸の方に、および、ファンネル212の縁部から離れるように吹き飛ばす。
【0075】
図8および図11Aを参照すると、ネック部材230は、空気260の流れが第1の開口部218を通ってファンネル212へ引き込まれ、空気の流れは、さらにファンネル212から引き出されて、ネック部分230を通って排気されるように真空源(図示せず)と流体連通する。すなわち、吸引が、ネック部材230を介して内部空間214に印加される。さらに、スカート部分234と接続された少なくとも1つの排気管242は、空気262の流れがスカート部分234とファンネル212との間の内部空間238へ引き込まれ、排気管242を通って内部空間238から引き出されるように、真空源と流体連通する。
【0076】
図7および図11Aを参照すると、ガラス洗浄装置200は、ガスナイフ264(例えば、エアナイフ)をさらに備えることがあり、ガスナイフ264は、加圧ガス、例えば、空気が供給され、このガスは、矢印266によって示されているように、高速でガスナイフのスロットから排出される。ガスナイフから排出されたガスは、シュラウド組立体202から出る粒子状物質が、シュラウド組立体の方に戻る方向に押されてガラス基板の表面から除去されるようにガラス洗浄装置200に隣接するガラス基板62の主要面に向けられる。図11Aに示されているように、ガスナイフ264を出るガスは、シュラウド212とガラス基板62の第1の表面204の間の隙間Fに向う方向に導かれる。いくつかの実施形態において、1つ超えのガスナイフが、各ガラス洗浄装置に関連付けられてもよい。例えば、図7は、2つのシュラウド組立体202の各々に関連した少なくとも2つのガスナイフ264、つまり、搬送方向108と平行に位置合わせされたガスナイフおよび搬送方向108と直交して配置されたガスナイフを示す。
【0077】
要約すると、ガラス基板62がガイドアーム122、124によって案内されたガラス洗浄組立体200を過ぎて搬送方向108に移動するとき、回転ノズル252が回転し、円形パターンが第1の主要面204にわたって掃引される。回転ノズルのガス抜き254を出るガスは、ガラス基板62の第1の主要面204に当たるとガラスデブリなど、粒子状物質を第1の主要面から持ち上げる。スカート部分234とファンネル212との間に画定された内部空間238に印加された吸引は、ガス抜き254を出るガスによってファンネル212の内部から離れる方向に吹き飛ばされるかもしれない粒子状物質を捕捉し、粒子状物質がシュラウド組立体202の経路の外側で第1の主要面204上に再付着しないように粒子状物質を、排気管242を介して排出する。
【0078】
さらに、ガスナイフ264は、粒子状物質が排気管242を通って適用された吸引によって排出されてもよい第3の開口部240に向う方向にデブリを吹き戻す。
【0079】
いくつかの実施形態において、ガラス洗浄装置200は、シュラウド組立体202より下方に、例えば、ガラス基板下縁部の搬送路に沿ってガラス基板62より下方に配置され、搬送路に沿って延びる真空経路270をさらに備えてもよい。真空経路270は、真空源と流体連通する1つ以上の真空通路を備えてもよい。真空経路270は、シュラウド組立体202を出るかもしれない粒子状物質を捕捉するために配置されている。そうでなければ、その粒子状物質、例えば、ファンネル212を通るガス流が、粒子をファンネルに引き込み、ファンネルから引き出すのに不十分であるほど十分な重量の大きい粒子は、重力によって下方に引かれるかもしれない。真空経路270によって捕捉された粒子状物質は、その後、矢印274(図11Aを参照)によって示されているように、通路272を介して真空経路270から引き出され、その後、例えば、フィルタ装置、例えば、フィルタバッグに捕捉されてもよい。
【0080】
シュラウド組立体202の粒状除去効率のモデル化では、粒径および排気管242を介してスカート部分234内から除去されるガスの速度の両方を検討した。幅が約100マイクロメートルの粒子(例えば、同等の直径)について、粒子は、一般的にシュラウド組立体202によって影響を受けず下方に落ち、粒子は、真空経路270によって捕捉することができることがわかった。60マイクロメートル以下の幅を有する、例えば、10マイクロメートルの幅を含め、30マイクロメートル以下の幅を有する粒子については、排気管240を通る約2メートル/秒以上のガス流速は、粒子をガラス基板に対して跳ねさせる傾向があり、その結果、基板損傷の状況が示された。したがって、排気管242を通るガスの速度を2メートル/秒未満、例えば、約0.05メートル/秒から2メートル/秒未満の範囲の速度に維持すると、ガラス基板に対する粒子状物質の跳ね返りを引き起こすことなく、100マイクロメートル未満、例えば、約60マイクロメートル以下の粒子状物質を除去することができることがわかった。最適性能は、約1メートル/秒以下の、例えば、約0.05メートル/秒から約1メートル/秒の範囲で、例えば、約0.1メートル/秒から約0.7メートル/秒の範囲で排気管240を通る排気速度で達成された。
【0081】
モデル化によって、ネック部材230を介してファンネル212の内部空間214に印加された吸引(以下、中央真空という)は、回転ノズルの粒状除去機能、およびスカート部分234で印加される(以下、リング真空という)に悪影響を及ぼすことがわかった。ガラス洗浄装置200の好適な操作方法は、ガラス基板がファンネル212に隣接する間には中央真空をオフし、その後、ファンネルに隣接するガラスがない期間中に、ファンネルの内部を洗浄するために中央真空を利用することである。これは、図12A−図12Dを使用して可視化することができる。
【0082】
図12Aを参照すると、破線280は、搬送方向108に進む前進中のガラス基板62に最も近い、特に、スカート部分234最も近いシュラウド組立体202上の地点に接する平面を表す。接平面280は、搬送方向108と直交している。前縁128が接平面280に到達する前に、吸引がネック部分230を介して容積部214上で引き出されるように中央真空を起動させてもよく、その結果、シュラウド組立体202を過ぎて搬送された前のガラス基板から累積していたかもしれない粒子状物質がファンネル212から除去される。前縁128が接平面280に到達したとき、または、前縁128が接平面280に到達する前の何らかの時間に、中央真空は、シュラウド組立体202がガラス基板62に直に対向している時間中に中央真空が機能していないようにオフされる。いくつかの実施形態において、ノズル組立体246に対するガス圧力は、前縁128が接平面280に到達する前に、または、到達したときにオフされてもよく、その後、前縁128が接平面282(接平面280に接する地点の反対側のシュラウド組立体202上の地点に接する平面)に到達し、シュラウド組立体202が、図12Bに示されているように、ガラス基板62に完全に隣接して配置されたとき、ノズル組立体246に対するガス圧力は、再確立されてもよい。
【0083】
図12Cをここで参照すると、後縁130が接平面280に到達したとき、ノズル組立体246に対するガス圧力は、停止されることがある。その後、ガラス基板は搬送方向108に沿って移動し続けるので、後縁130が図12Dに示されているように接平面282に到達したとき、(シュラウド組立体202がもはやガラス基板62に対向していないとき)または、その後、中央真空は、ファンネル212内で回収されるかもしれない粒子状物質の除去を助けるためにオンされてもよい。
【0084】
イベントの前出のシーケンス中、1つ以上のガスナイフ264は、連続的に操作されることがある。同様に、イベントの前出のシーケンス中、真空経路270は、連続的に操作されることがある。いくつかの実施形態において、吸引は、前出のシーケンスを通して連続的に真空孔242を通って印加されてもよいが、さらなる実施形態において、真空孔242を通る吸引は、同時にまたはほぼ同時に切り替えてオンおよびオフされてもよく、ノズル部材252に対する加圧ガスは切り替えられる。
【0085】
ガラス基板62が下流側プロセスステーション64に移動し、例えば、ガラス洗浄装置200および前縁128が下流側プロセス設備の損傷する態様を通過すると、コントローラ126は、延伸装置118、120にガイドアーム122を延伸し、ガイドアーム124を退縮させることによってガイドアーム122、124間の隙間Gを開くように指示することができる。さらに、コントローラ126は、キャリッジ組立体114が次のガラス基板を待つために開始位置に戻るまで、駆動組立体116に搬送方向108の反対の戻り方向にキャリッジ組立体114を移動するように指示することができ、その後、プロセスサイクルは繰り返す。
【0086】
様々な改変および変形を、本開示の精神および範囲から逸脱することなく本開示の実施形態に行うことができることが当業者には明らかであろう。したがって、本開示は、添付の特許請求の範囲および均等物の範囲に該当することを条件としてかかる改変および変更を包含することが意図されている。
【0087】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【0088】
実施形態1
平面の基板を洗浄する装置において
シュラウド組立体
を備え、当該シュラウド組立体が、
第1の中空内部空間を画定するシュラウドであって、当該シュラウドが、当該第1の中空内部空間への第1の開口部を画定する第1の端部、当該第1の端部の反対側の、当該第1の中空内部空間への第2の開口部を画定する第2の端部を含む、シュラウド、
前記中空内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なノズル部材であって、当該ノズル部材が、ガスの第1の流れを前記基板の方に導くように配置された第1のガス抜きを含む、ノズル部材、
スカート部分であって、環状の第2の中空内部空間が当該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第1の端部に隣接して当該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記第2の開口部を介して前記第1の内部空間と流体連通する第1の真空孔および前記環状の第2の内部空間と流体連通する第2の真空孔、
を含む、装置。
【0089】
実施形態2
前記シュラウドが、円錐形部分を含む、実施形態1に記載の装置。
【0090】
実施形態3
前記第1のガス抜きが、前記ガスの第1の流れを前記回転軸に向う方向に導くように配置されている、実施形態1に記載の装置。
【0091】
実施形態4
前記シュラウド組立体に近接して配置され、ガスの第3の流れを前記基板に向う方向に導くように配置された少なくとも1つのガスナイフをさらに備える、実施形態1に記載の装置。
【0092】
実施形態5
前記シュラウド組立体より下方に配置された真空経路をさらに備える、実施形態1に記載の装置。
【0093】
実施形態6
前記第1の開口部が前記基板の主要面に隣接して配置されるように実質的に垂直の配向で当該基板を搬送するように構成された搬送装置をさらに備える、実施形態1に記載の装置。
【0094】
実施形態7
前記ガラス洗浄装置が、1対の対向するシュラウド組立体を備え、前記平面基板が当該1対の対向するシュラウド組立体の間で搬送されるように配置された、実施形態6に記載の装置。
【0095】
実施形態8
前記第1の開口部上の前記第2の開口部の突出部が、当該第1の開口部と同心である、実施形態1に記載の装置。
【0096】
実施形態9
前記回転軸が、前記第1の開口部の中央部を貫通する、実施形態1に記載の装置。
【0097】
実施形態10
前記回転軸が、前記第2の開口部の中央部を貫通する、実施形態9に記載の装置。
【0098】
実施形態11
前記回転軸が、前記第2の開口部の中央部を貫通する、実施形態1に記載の装置。
【0099】
実施形態12
前記シュラウドが、円筒形シュラウドである、実施形態1に記載の装置。
【0100】
実施形態13
前記搬送装置が、
搬送部材、
前記搬送部材に結合され、搬送方向に当該搬送部材の長さに沿って移動可能なキャリッジ組立体、
前記キャリッジ組立体に結合された1対の延伸装置であって、当該1対の延伸装置の各延伸装置が、前記搬送方向と実質的に平行な方向に延伸装置から延びるガイドアームを含み、当該ガイドアームが、当該搬送方向と直交する横方向に沿って移動可能である、1対の延伸装置、
前記ガラス板の前縁を第1の位置で検出するために配置される第1のセンサー、および
前記キャリッジ組立体および前記1対の延伸装置の移動を制御および調整するように構成されたコントローラ、
を含む、実施形態6に記載の装置。
【0101】
実施形態14
各ガイドアームが、当該ガイドアームの長さに沿って配置された複数のローラーを備える、実施形態1に記載の装置。
【0102】
実施形態15
各ガイドアームが、加圧ガスの供給源と流体連通する複数のガスポートを含む、実施形態1に記載の装置。
【0103】
実施形態16
前記第1のセンサーが、光センサーを含む、実施形態1に記載の装置。
【0104】
実施形態17
前記ガラス板の前縁を前記搬送方向に対して前記第1の位置の下流側で第2の位置で検出するために配置された第2のセンサーをさらに備える、実施形態1に記載の装置。
【0105】
実施形態18
前記ガラス板の前縁を第3の位置で検出するために配置される第3のセンサーをさらに備え、当該第3のセンサーが、前記第1のセンサーと垂直に位置合わせされている、実施形態1に記載の装置。
【0106】
実施形態19
前記第3のセンサーが、前記ガラス板の前縁を当該ガラス板の下縁部で検出するために配置されている、実施形態18に記載の装置。
【0107】
実施形態20
ガラス基板を洗浄する方法において
前記ガラス基板を搬送方向に搬送するステップであって、当該ガラス基板が、シュラウド組立体を備えるガラス洗浄装置に隣接して通り、当該シュラウド組立体が、
第1の中空内部空間を画定するシュラウドであって、当該シュラウドが、当該第1の中空内部空間への第1の開口部を画定する第1の端部と、当該第1の端部の反対側の第2の端部とを含み、当該第2の端部が、当該第1の中空内部空間への第2の開口部を画定し、当該第2の開口部の直径が、当該第1の開口部の直径未満である、シュラウド、
前記内部空間内に取り付けられ、回転軸周りに回転可能なガスノズル部材であって、当該ガスノズル部材が、ガスの第1の流れを前記ガラス基板の主要面に向う方向に導くように配置された第1のガス抜きを含む、ガスノズル部材、
スカート部分であって、環状の第2の中空内部空間が当該スカート部分と前記シュラウドとの間に形成されるように前記第1の開口部に隣接して当該シュラウドの少なくとも一部の周りに配置されたスカート部分、および
前記環状第2の中空内部空間と流体連通する第1の真空孔、
を含む、ステップと、
前記ガスの第1の流れが、円形路を前記第1の開口部を通って前記ガラス基板の表面にわたって掃引し、粒子状物質を当該ガラス基板の表面から払い落とすように前記ガスノズル部材を前記回転軸周りに回転させるステップ、および
吸引を前記第1の真空孔に印加し、それによって、前記払い落とされた粒子状物質を当該第1の真空孔を介して排出するステップ
を含む、方法。
【0108】
実施形態21
前記第1の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約1メートル/秒以下である、実施形態20に記載の方法。
【0109】
実施形態22
前記第1の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約0.05メートル/秒から約1メートル/秒の範囲である、実施形態21に記載の方法。
【0110】
実施形態23
前記第1の真空孔を介して排出されたガスの速度が、約0.1メートル/秒から約0.7メートル/秒の範囲である、実施形態22に記載の方法。
【0111】
実施形態24
前記シュラウドが、前記第2の開口部を介して前記第1の中空内部空間と流体連通する第2の真空孔を含み、前記方法が、前記ガラス基板が前記シュラウド組立体に隣接していないときに限り吸引を当該第2の真空孔に印加することをさらに含む、実施形態20に記載の方法。
【0112】
実施形態25
前記第1のガス抜きを通る前記ガスの第1の流れが、前記シュラウド組立体が前記ガラス基板に隣接していないときに停止される、実施形態20に記載の方法。
【0113】
実施形態26
前記第1の開口部上への前記第2の開口部の突出部が、当該第1の開口部と同心である、実施形態20に記載の方法。
【0114】
実施形態27
前記シュラウドが、円錐形部分を含む、実施形態20に記載の方法。
【0115】
実施形態28
前記ガラス基板が、実質的に垂直の配向で当該ガラス基板の頂部から支持されている間に搬送される、実施形態20に記載の方法。
【0116】
実施形態29
前記搬送するステップが、
前記ガラス基板の前縁の位置を前記搬送方向に対して感知するステップ、
前記前縁の前記感知された位置を用いて搬送速度を判定するステップ、
前記ガラス板の前記感知された位置に応答してキャリッジ組立体を前記搬送速度で前記搬送方向に移動するステップであって、当該キャリッジ組立体は、当該組立体に結合され、当該搬送方向と実質的に平行な方向に当該組立体から延びる1対の対向するガイドアームを含む、ステップ、
前記ガイドアームを開放位置から制約する位置まで前記搬送方向と直交する横方向に移動し、それによって、当該ガイドアーム間の隙間を低減して当該搬送方向と直交する方向の前記ガラス基板の移動を制約するステップ、
を含む、実施形態25に記載の方法。
【符号の説明】
【0117】
10 ガラス製造装置
12 ガラス溶融炉
14 溶融槽
16 上流側ガラス製造装置
18 原材料貯蔵ビン
20 原材料送達装置
22 モーター
24 原材料
26 矢印
28 溶融ガラス
30 下流側ガラス製造装置
32 第1の連結管
34 清澄槽
36 混合装置
38 第2の連結管
40 送達容器
42 形成体
44 出口導管
46 第3の連結管
48 形成装置
50 入口導管
52 トラフ
54 1対の収束形成面
56 形成体の下縁部
58 ガラス
60 延伸方向
62 ガラス基板
64 ガラス基板洗浄プロセスステーション
100 搬送装置
102 移送組立体
104 レールまたは軌道
106 移動可能な取り付け台組立体
108 搬送方向
110 クランプ装置
112 搬送部材、支持部材
114 キャリッジ組立体
116 駆動組立体
117 制御ライン
118、120 延伸装置
119、121 制御ライン
122、124 ガイドアーム
123 制御ライン
126 コントローラ
127 横方向
128 前縁
130 後縁
132a 第1のセンサー
132b 第2のセンサー
134a、134b、134c 光源
136a、136b、136c 反射ターゲット
138a、138b、138c 検出器
140a 光ビーム
142a,142b,142c データライン
144 ローラー
146 ガス抜き
148、150 ガス供給管路
200 ガラス洗浄装置
202 シュラウド組立体
204 第1の主要面
206 第2の主要面
210 シュラウド
212 ファンネル
214 内部容積部
216 第1の端部
218 第1の円形開口部
220 第2の端部
222 第2の開口部
224 長手軸
226 第1の平面
228 平面
230 中空ネック部分
232 通路
234 スカート部分
236 フランジ
238 環状内部空間
240 第3の開口部
R 距離
242 排気管、真空孔
244 通路
246 ガス送達装置
248 中央シャフト
250 ガス送達通路
252 ノズル部材、回転ノズル
254 支持部材、ガス抜き
256 加圧ガス、ガス抜き
258 ガス供給管路、矢印
α 角度
260、262 空気
264 ガスナイフ
266 矢印
270 真空経路
272 通路
274 矢印
280 破線、接平面
282 接平面
310 シュラウド
312 第1の端部
316 第1の開口部
318 第2の端部
320 平面またはドーム状端部部材
322 第2の開口部
324 中空ネック部分
410 シュラウド
414 第1の端部
416 第1の開口部
418 第2の端部
420 端部部材
422 第2の開口部
424 中空ネック部分
F 隙間
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9A】
【図9B】
【図10】
【図11A】
【図11B】
【図11C】
【図12A】
【図12B】
【図12C】
【図12D】
【図13】
【国際調査報告】